1.一种应用于三维霍尔传感器的霍尔器件,其特征在于:所述霍尔器件为完全对称的两个十字结构的深N阱;所述十字结构的深N阱的四个端点和中心分别设置有重掺杂的N+区层,所述四个端点重掺杂的N+区层与中心重掺杂的N+区层之间均设置有高掺杂的P+区层;所述十字结构为两个三孔垂直霍尔器件的叠加构成;所述三孔垂直霍尔器件为在深N阱上设置三个重掺杂的N+区层,N+区之间设置高掺杂的P+区;所述N+区层上设置有接触电极,作为偏置电极或霍尔电极。
2.根据权利要求1所述的一种应用于三维霍尔传感器的霍尔器件,其特征在于:所述霍尔器件基于硅基板。
3.根据权利要求1所述的一种应用于三维霍尔传感器的霍尔器件,其特征在于:所述接触电极采用铝材料。
4.根据权利要求1-3任一所述的一种应用于三维霍尔传感器的霍尔器件的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1:基于硅基板,采用高压CMOS工艺制备两个十字结构深N阱;步骤S2:在十字结构的深N阱的四个端点和中心分别制备重掺杂的N+区层;步骤S3:在所述重掺杂的N+区层上方制备对应的接触电极;步骤S4:所述四个端点重掺杂的N+区层与中心重掺杂的N+区层之间均制备高掺杂的P+区层。
5.一种采用权利要求1或3所述应用于三维霍尔传感器的霍尔器件的测磁方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1:双十结构从左到右N+区层对应的接触电机编号分别为contact1、contact2、...、contact6,接触电极contact1和contact6,contact3和contact4分别用导线连接;步骤S2:contact1和contact6作为偏置输入电极,contact3和contact4作为偏置输出电极,载流子在流经N阱内部时,由于磁场的存在,受到洛伦茨力的影响发生偏转,聚集于作为霍尔电极的contact2和contact5处,由于两个三孔结构完全对称,contact2和contact5处的电势应相同,侦测磁场时,二者之间出现的势差即为霍尔电压;步骤S3:contact3和contact4作为偏置输入电极,contact1和contact6作为偏置输出电极,载流子在流经N阱内部时,由于磁场的存在,受到洛伦茨力的影响发生偏转,聚集于作为霍尔电极的contact2和contact5处,由于两个三孔结构完全对称,contact2和contact5处的电势应相同,侦测磁场时,二者之间出现的势差即为霍尔电压。