IPMC材料的制备方法、其中间体的制备方法、IPMC材料

1.一种IPMC材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：基体膜糙化处理发生在基体膜进行第一次离子交换处理之后以及基体膜进行第一次还原处理之前。 2.根据权利要求1所述的IPMC材料的制备方法，其特征在于，在所述基体膜进行第一次还原处理之后，再先后进行离子交换处理、还原处理，每一次离子交换处理、还原处理为一个周期。 3.根据权利要求2所述的IPMC材料的制备方法，其特征在于，所述周期为2～5次。 4.根据权利要求1所述的IPMC材料的制备方法，其特征在于，所述基体膜糙化处理包括喷砂处理、砂纸打磨、微针糙化、等离子体刻蚀的一种。 5.根据权利要求4所述的IPMC材料的制备方法，其特征在于，所述微针糙化的糙化装置包括微针滚轮或微针板。 6.根据权利要求1所述的IPMC材料的制备方法，其特征在于，所述离子交换处理采用的还原镀液包括含有Pd 2+ 、Ag + 、Au + 、Ni + 、Cu 2+ 的络合盐溶液至少一种。 7.根据权利要求1所述的IPMC材料的制备方法，其特征在于，所述还原处理采用的还原剂为NaBH 4 。 8.一种IPMC材料的中间体制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、将预处理后的基体膜进行第一次离子交换处理；步骤二、将步骤一得到的基体膜进行糙化处理后，冲洗；步骤三、将步骤二处理后的基体膜进行第一次还原处理；步骤四，对步骤三处理后的基体膜先后再次进行离子交换处理、还原处理，每一次离子交换处理、还原处理为一个周期，该周期持续多次。 9.根据权利要求8所述的IPMC材料的中间体制备方法，其特征在于，所述周期持续2～5次。 10.一种采用如权利要求1至7任一项所述的IPMC材料的制备方法制备的IPMC材料。