1.一种通过重复利用无氮黑硅清洗液对硅片进行制绒的方法，所述方法包括以下步骤：(1)将硅片浸入含有铜盐、氢氟酸和双氧水的黑硅制绒液中进行制绒；(2)用去离子水清洗所述步骤(1)中制得的制绒后的硅片，吹干；(3)在10-85℃下，采用无氮黑硅清洗液清洗所述步骤(2)中得到的吹干后的硅片30秒至20分钟，以去除沉积在硅片表面上的金属颗粒；其中，所述无氮黑硅清洗液包含选自氢氟酸、盐酸、硫酸和醋酸中的一种或多种酸和双氧水，所述一种或多种酸的浓度为1-2mol/L，以及所述双氧水的浓度为2-5mol/L；(4)用去离子水清洗所述步骤(3)中得到的无氮黑硅清洗液清洗后的硅片，吹干，制得具有绒面结构的硅片；和(5)重复步骤(1)至(4)，直至无氮黑硅清洗液达到使用寿命，以达到使用寿命的无氮黑硅清洗液为原料配制所述步骤(1)中所述的黑硅制绒液；其中，所述黑硅制绒液和所述无氮黑硅清洗液的使用寿命为30000-150000片硅片，以及所述达到使用寿命的黑硅清洗液的用量为所述黑硅制绒液体积的10-85％。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述硅片为P型金刚线切多晶硅片、P型金刚线切单晶硅片、N型金刚线切单晶硅片或P型砂浆切割多晶硅片。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述铜盐为选自硝酸铜、氟化铜、氯化铜、醋酸铜和硫酸铜中的一种或多种。
4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述步骤(1)中所述的黑硅制绒液包含0.01-30mmol/L的铜盐、0.5-10mol/L的氢氟酸和0.1-5mol/L的双氧水。
5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述步骤(1)中所述的黑硅制绒液包含0.5-5mmol/L的铜盐、3-6mol/L的氢氟酸和0.6-2mol/L的双氧水。
6.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述步骤(1)中制绒的温度为40-80℃；时间为30秒至15分钟。
7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述步骤(1)中制绒的温度为40-60℃。
8.根据权利要求6所述的方法，其中，所述步骤(1)中制绒的温度为40-50℃。
9.根据权利要求6所述的方法，其中，所述步骤(1)中制绒的时间为3-5分钟。
10.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述步骤(3)中采用无氮黑硅清洗液清洗的温度为25-60℃。
11.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述步骤(3)中采用无氮黑硅清洗液清洗的温度为25-50℃。
12.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述步骤(3)中采用无氮黑硅清洗液清洗的时间为3-5分钟。
13.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述步骤(2)和所述步骤(4)中清洗后的去离子水用于配制黑硅制绒液和/或无氮黑硅清洗液。
14.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述方法包括以下步骤：(1)将硅片浸入黑硅制绒液中进行制绒，制绒的温度为40-50℃，时间为3-5分钟；其中，所述黑硅制绒液包含0.5-5mmol/L的铜盐、3-6mol/L的氢氟酸和0.6-2mol/L的双氧水；(2)用去离子水清洗所述步骤(1)中制得的制绒后的硅片，吹干；(3)在25-50℃下，采用无氮黑硅清洗液清洗所述步骤(2)中得到的吹干后的硅片3-5分钟，以去除沉积在硅片表面上的金属颗粒；其中，所述无氮黑硅清洗液包含选自氢氟酸、盐酸、硫酸和醋酸中的一种或多种酸以及双氧水，所述的一种或多种酸的浓度为1-2mol/L，以及所述双氧水浓度为2-5mol/L；(4)用去离子水清洗所述步骤(3)中得到的无氮黑硅清洗液清洗后的硅片，吹干，制得具有绒面结构的硅片；和(5)重复步骤(1)至(4)，直至无氮黑硅清洗液达到使用寿命，以达到使用寿命的无氮黑硅清洗液为原料配制所述步骤(1)中所述的黑硅制绒液；其中，所述黑硅制绒液和所述无氮黑硅清洗液的使用寿命为30000-150000片硅片，以及所述达到使用寿命的黑硅清洗液的用量为所述黑硅制绒液体积的10-85％。
