1.一种辐射检查系统(100)，包括用于发射初始射束(N1)的辐射源和用于将所述初始射束(N1)调制为扫描射束的射束调制装置，其特征在于，所述射束调制装置包括设置于所述辐射源的射束出射侧的第一准直结构(114)和设置于所述第一准直结构(114)的射束出射侧的第二准直结构(130)，所述第一准直结构(114)包括第一准直口(1141)，所述第二准直结构(130)包括第二准直口(131)，所述第二准直结构(130)与所述第一准直结构(114)相对可动地设置以改变所述第一准直口(1141)和所述第二准直口(131)的相对位置，使所述射束调制装置在第一工作状态和第二工作状态之间切换，其中，在所述第一工作状态，所述射束调制装置将所述初始射束(N1)调制为扇形束(N2)，在所述第二工作状态，所述射束调制装置将所述初始射束(N1)调制为位置可变的笔形束(N3)。
2.根据权利要求1所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，在所述第二工作状态，所述第二准直结构(130)与所述第一准直结构(114)可相对平移和/或可相对转动以改变所述第二准直口(131)与所述第一准直口(1141)的垂直于所述初始射束(N1)的出射方向的交叉位置，从而改变所述笔形束(N3)的位置。
3.根据权利要求1所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述第一准直结构(114)包括第一准直板；所述第二准直结构(130)包括第二准直板。
4.根据权利要求3所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述第一准直板为第一准直平板，所述第二准直板为第二准直平板；或者，所述第一准直板为第一准直曲面板，所述第二准直板为第二准直曲面板。
5.根据权利要求3所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述第一准直板平行于所述第二准直板。
6.根据权利要求1所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述第一准直口(1141)为第一准直缝；所述第二准直口(131)为第二准直缝。
7.根据权利要求1所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述第一准直缝和所述第二准直缝中至少一个为直线型准直缝。
8.根据权利要求7所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述第二准直缝相对于所述第一准直缝倾斜设置或垂直设置。
9.根据权利要求1所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述第一准直结构(114)静止，所述第二准直结构(130)可动地设置；或者，所述第一准直结构可动地设置，所述第二准直结构静止；或者，所述第一准直结构和所述第二准直结构均可动地设置。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述辐射源包括中子源(111)。
11.根据权利要求10所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述中子源(111)包括光中子源。
12.根据权利要求10所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述辐射检查系统(100)还包括中子调制罩，所述中子调制罩设置于所述中子源(111)外周，以对所述中子源(111)产生的中子进行调制。
13.根据权利要求12所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述中子调制罩包括慢化层(112)，所述慢化层(112)设置于所述中子源(111)外周以慢化所述中子源(111)产生的中子。
14.根据权利要求13所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述中子调制罩还包括屏蔽层(113)，所述屏蔽层(113)设置于所述慢化层(112)的外周，包括屏蔽慢化后的中子的屏蔽部和设置于所述射束出射侧的用于出射所述初始射束(N1)的中子出射口。
15.根据权利要求14所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述屏蔽层(113)还用于屏蔽γ射线。
16.根据权利要求1至9中任一项所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述辐射检查系统(100)还包括探测装置和控制装置，所述探测装置用于接收从所述扫描射束辐射的被检查物体(210)返回的光子(R)，所述控制装置与所述探测装置耦合以接收所述探测装置的探测信号并根据所述探测信号形成检查结果。
17.根据权利要求16所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述探测装置包括第一探测模块(140)和能量分辨率高于所述第一探测模块的第二探测模块(160)，所述第一探测模块(140)和所述第二探测模块(160)用于接收从所述扫描射束辐射的被检查物体(210)返回的光子(R)；所述控制装置与所述第一探测模块(140)耦合以接收所述第一探测模块(140)的第一探测信号并根据所述第一探测信号形成第一检查结果；所述控制装置还与所述第二探测模块(160)耦合以接收所述第二探测模块(160)的第二探测信号并根据所述第二探测信号形成第二检查结果。
18.根据权利要求17所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述探测装置包括用于控制进入所述第一探测模块(140)的光子(R)的束流形状的第一探测模块前准直结构(150)；和/或，所述探测装置包括用于控制进入所述第二探测模块(160)的光子(R)的束流形状的第二探测模块前准直结构。
19.根据权利要求17所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，在所述第二工作状态，所述第二探测模块(160)在探测过程中与所述笔形束(N2)相对位置固定。
20.一种利用权利要求1至18中任一项所述的辐射检查系统(100)检查被检查对象的辐射检查方法，其特征在于，包括：使所述射束调制装置处于第一工作状态，使用所述扇形束(N2)扫描所述被检查对象，确定需精确检查的嫌疑区域；使所述射束调制装置处于第二工作状态，使用所述笔形束(N3)对所述嫌疑区域进行精确检查。
21.根据权利要求20所述的辐射检查方法，其特征在于，所述辐射检查系统(100)包括第一探测模块(140)和能量分辨率高于所述第一探测模块(140)的第二探测模块(160)，所述辐射检查方法包括：在所述第一工作状态，所述第一探测模块(140)单独探测，或者，所述第一探测模块(140)与所述第二探测模块(160)同时探测，以确定所述嫌疑区域；在所述第二工作状态，所述第二探测模块(160)单独探测，或者所述第一探测模块(140)与所述第二探测模块(160)同时探测，以对所述嫌疑区域进行精确检查。
