1.一种一维纳米材料观测装置，其特征在于，包括：一第一光源与一第二光源，分别用于提供第一入射光与第二入射光，其中，所述第一入射光与第二入射光均为连续光谱的白光且入射方向互不平行且用于产生共振瑞利散射，所述第一光源与所述第二光源均为连续光谱白光光源；一承载装置，用于承载待测一维纳米材料及耦合液；以及一光学显微镜，用于观测所述待测一维纳米材料。
2.如权利要求1所述的一维纳米材料观测装置，其特征在于，进一步包括：一辅助成像装置，用于向所述待测一维纳米材料表面通入蒸气；一图像采集模块，用于记录所述待测一维纳米材料在光学显微镜下所成的影像；一图像处理模块，接收所述图像采集模块获得的影像，并对该影像进行分析，获取待测一维纳米材料的延伸方向信息；以及一控制模块，分别与所述第一光源、所述第二光源、所述图像处理模块连接，接收所述图像处理模块获取的延伸方向信息，并根据该延伸方向信息控制光源开启数量，当待测一维纳米材料沿同一方向延伸时，所述控制模块选取所述第一光源与第二光源中的一个光源作为工作光源，当待测一维纳米材料沿两个或多个方向延伸时，所述控制模块选取所述第一光源与第二光源同时工作。
3.如权利要求2所述的一维纳米材料观测装置，其特征在于，所述控制模块还用于调整所述第一光源发出的第一入射光与所述第二光源发出的第二入射光的光强和入射角。
4.如权利要求1所述的一维纳米材料观测装置，其特征在于，所述承载装置包括底壁与侧壁，所述底壁与所述侧壁共同形成一第一腔体，用于容纳所述待测一维纳米材料及耦合液，其中所述待测一维纳米材料设置于所述底壁，所述侧壁包括至少一透明部，所述第一入射光与所述第二入射光通过该透明部射向所述待测一维纳米材料。
5.如权利要求1所述的一维纳米材料观测装置，其特征在于，进一步包括：一第一光纤，所述第一光纤的一端连接所述第一光源，另一端浸入到耦合液中并设置于所述待测一维纳米材料的表面；以及一第二光纤，所述第二光纤的一端连接所述第二光源，另一端浸入到耦合液中并设置于所述待测一维纳米材料的表面。
6.如权利要求1所述的一维纳米材料观测装置，其特征在于，进一步包括一第一光纤，所述第一光纤的一端连接所述第一光源，另一端设置于所述待测一维纳米材料的表面；以及所述承载装置包括底壁与侧壁，所述底壁与所述侧壁共同形成一第一腔体，用于容纳所述待测一维纳米材料及耦合液，其中所述待测一维纳米材料设置于所述底壁，所述侧壁包括至少一透明部，所述第二入射光通过该透明部射向所述待测一维纳米材料。
7.如权利要求1所述的一维纳米材料观测装置，其特征在于，所述承载装置为一透明多面体，包括第一入射面、第二入射面以及出射面；所述第一入射光与所述第二入射光分别经由所述第一入射面与所述第二入射面进入所述透明多面体并射向所述待测一维纳米材料，所述待测一维纳米材料及耦合液设置于所述出射面。
8.如权利要求7所述的一维纳米材料观测装置，其特征在于，所述第一入射面与所述出射面夹角为范围为大于45°且小于90°，所述第二入射面与所述出射面夹角为范围为大于45°且小于90°。
9.如权利要求7所述的一维纳米材料观测装置，其特征在于，所述第一入射光与所述第二入射光相互垂直。
