星载SAR方位成像中的电离层空变效应影响判决方法

本发明提供一种星载SAR方位成像中的电离层空变效应影响判决方法。技术方案是：以星载SAR系统参数为输入，第一步：针对观测场景中任意目标点P，计算得到方位向慢时间t时刻的电离层穿刺点坐标第二步：针对所有的电离层穿刺点坐标利用在线IRI模型获取t时刻的STEC第三步：计算电离层STEC沿方位向的平均空间变化率ΔSTEC；第四步：判断ΔSTEC与门限值的大小，得到判决结果。本发明针对星载SAR方位成像处理，提出了电离层空变效应的影响判决方法，给出了判决门限和判决方法，在星载SAR电离层影响分析与校正处理中有广泛应用。