1.一种图案化薄膜的真空蒸镀装置，包括真空室及待镀基底，其特征在于，进一步包括：蒸发源条带，包括蒸发材料及碳纳米管膜结构，该碳纳米管膜结构为一载体，该蒸发材料设置在该碳纳米管膜结构表面，通过该碳纳米管膜结构承载；激光源，该激光源将激光信号照射至该碳纳米管膜结构使碳纳米管膜结构的温度升高后加热所述碳纳米管膜结构表面的蒸发材料；以及栅网，包括相对的第一表面及第二表面，该第一表面与该激光源相对且间隔设置，该蒸发源条带能够沿长度方向通过该激光源与该栅网之间，该栅网的第二表面与该待镀基底相对设置，该蒸发源条带通过该激光源与该栅网之间的部分与该待镀基底平行且间隔设置，该蒸发源条带、待镀基底、激光源及栅网均设置在该真空室中。
2.如权利要求1所述的图案化薄膜的真空蒸镀装置，其特征在于，该蒸发源条带、激光源及栅网能够整体相对于该待镀基底运动。
3.如权利要求1所述的图案化薄膜的真空蒸镀装置，其特征在于，进一步包括一蒸发源条带驱动机构，该蒸发源条带驱动机构能够驱动该蒸发源条带沿长度方向通过该激光源与该栅网之间。
4.如权利要求1所述的图案化薄膜的真空蒸镀装置，其特征在于，进一步包括一待镀基底驱动机构，该待镀基底驱动机构能够驱动该待镀基底平行于该栅网移动。
5.如权利要求1所述的图案化薄膜的真空蒸镀装置，其特征在于，进一步包括激光源驱动机构，该激光源驱动机构能够驱动该激光源、栅网及蒸发源条带整体平行于该待镀基底移动。
6.如权利要求1所述的图案化薄膜的真空蒸镀装置，其特征在于，进一步包括将该栅网与该激光源固定连接的栅网支架，该栅网支架垂直于该栅网设置在该栅网的两端，该栅网支架包括蒸发源条带传送口，使该蒸发源条带沿长度方向从该传送口通过该激光源与该栅网之间。
7.如权利要求1所述的图案化薄膜的真空蒸镀装置，其特征在于，进一步包括第一卷轴及第二卷轴，该第一卷轴与该第二卷轴垂直于该蒸发源条带的长度方向，并与该激光源固定连接，该蒸发源条带一端与该第一卷轴连接，另一端与该第二卷轴连接，并卷绕设置于该第一卷轴及第二卷轴中的至少一卷轴上。
8.如权利要求1所述的图案化薄膜的真空蒸镀装置，其特征在于，该碳纳米管膜结构的单位面积热容小于2×10 -4 焦耳每平方厘米开尔文，比表面积大于200平方米每克。
9.如权利要求1所述的图案化薄膜的真空蒸镀装置，其特征在于，该碳纳米管膜结构包括一个或相互层叠的多个碳纳米管膜，该碳纳米管膜包括多个通过范德华力首尾相连的碳纳米管。
10.如权利要求9所述的图案化薄膜的真空蒸镀装置，其特征在于，该碳纳米管膜中的碳纳米管基本平行于该碳纳米管膜表面，并沿同一方向延伸。
11.如权利要求1所述的图案化薄膜的真空蒸镀装置，其特征在于，该蒸发源条带的厚度小于或等于100微米。
12.如权利要求1所述的图案化薄膜的真空蒸镀装置，其特征在于，该蒸发源条带与该待镀基底的间距为1微米～10毫米。
13.一种图案化薄膜的真空蒸镀方法，包括：S1，提供设置在真空室中的蒸发源条带、激光源、栅网及待镀基底，该蒸发源条带包括蒸发材料及碳纳米管膜结构，该碳纳米管膜结构为一载体，该蒸发材料设置在该碳纳米管膜结构表面，通过该碳纳米管膜结构承载，该栅网包括相对的第一表面及第二表面，该第一表面与该激光源相对且间隔设置，该栅网的第二表面与该待镀基底相对设置；S2，驱动该蒸发源条带沿长度方向通过该激光源与该栅网之间；S3，通过该激光源向该蒸发源条带通过该激光源与该栅网之间的部分照射激光，使碳纳米管膜结构的温度升高后加热所述碳纳米管膜结构表面的蒸发材料，使该蒸发材料气化，通过该栅网的通孔在该待镀基底的待镀表面形成蒸镀层。
14.如权利要求13所述的图案化薄膜的真空蒸镀方法，其特征在于，进一步包括：S4，驱动该蒸发源条带、激光源及栅网整体与该待镀基底相对运动。
15.如权利要求13所述的图案化薄膜的真空蒸镀方法，其特征在于，该蒸发源条带的制备方法包括以下步骤：提供碳纳米管膜结构；以及在该碳纳米管膜结构表面通过溶液法、沉积法、蒸镀、电镀或化学镀的方法担载该蒸发材料。
16.如权利要求15所述的图案化薄膜的真空蒸镀方法，其特征在于，该蒸发材料通过溶液法担载在该碳纳米管膜结构表面，具体包括以下步骤：将该蒸发材料溶于或均匀分散于一溶剂中，形成一溶液或分散液；将该溶液或分散液均匀附着于该碳纳米管膜结构表面；以及将附着在该碳纳米管膜结构表面的溶液或分散液中的溶剂蒸干，从而将该蒸发材料均匀的附着在该碳纳米管膜结构表面。
17.如权利要求16所述的图案化薄膜的真空蒸镀方法，其特征在于，该蒸发材料包括多种材料，该多种材料在溶剂中按预定比例预先混合均匀，形成该溶液或分散液。
18.如权利要求13所述的图案化薄膜的真空蒸镀方法，其特征在于，该激光信号的平均功率密度在100mW/mm 2 ～20W/mm 2 范围内。
19.如权利要求14所述的图案化薄膜的真空蒸镀方法，其特征在于，该步骤S4进一步包括通过待镀基底驱动机构驱动该待镀基底运动。
20.如权利要求14所述的图案化薄膜的真空蒸镀方法，其特征在于，该步骤S4进一步包括通过激光源驱动机构驱动该激光源、栅网及蒸发源条带整体相对于该待镀基底运动。
21.如权利要求14所述的图案化薄膜的真空蒸镀方法，其特征在于，该步骤S2～S4交替进行或同时进行，使该蒸发源条带沿长度方向通过该激光源与该栅网之间的过程中，该激光源多次照射该蒸发源条带沿长度方向的不同位置，且使待镀基底需要形成蒸镀层的待镀表面各个位置依次与该栅网相对设置，从而在该待镀表面形成预定图案的真空蒸镀薄膜。
