光栅的制备方法

本发明提供一种光栅的制备方法，包括以下步骤：提供一基底；在所述基底的表面形成一掩模层；纳米压印所述掩模层，使所述掩模层表面形成并排延伸的多个条形凸起结构；刻蚀所述掩模层，使所述凸起结构的顶端两两靠在一起而闭合；刻蚀所述基底，使所述基底的表面图案化，形成多个三维纳米结构预制体；以及去除所述掩模层，形成多个三维纳米结构。