硅纳米结构的制备方法

一种硅纳米结构的制备方法，其具体包括以下步骤：提供一生长装置，且该生长装置包括一加热炉以及一反应室；提供一生长基底，并将该生长基底与一催化剂材料间隔置于反应室内；向反应室通入流量比10∶1～1∶10的硅源气体与氢气，并加热至500～1100℃，生长硅纳米结构。