一种标准漏孔的制作方法

本发明涉及一种标准漏孔的制作方法。本发明所提供的标准漏孔制作方法包括以下步骤：提供一基底；在基底上形成一催化剂薄膜，其具有预定图案结构；在催化剂的位置生长出预定尺寸及数目的一维纳米结构；在基底上形成一第二膜层；去除一维纳米结构及其附近的基底材料，使在第二膜层中形成尺寸与一维纳米结构相应的通孔，从而获得一标准漏孔。本发明通过数目、形状及尺寸可控的一维纳米结构作为制造模板，漏孔的漏率可由理论计算准确求得，因此可获得漏率可控性好、可自定标的标准漏孔；从而解决了现有技术中漏孔可控性差，且必须借助其它设备对其漏率值进行标定的不足。