在航空、航天、汽车、电子等高科技及工业领域,高性能陶瓷涂层因其优异的耐高温、耐磨损、耐腐蚀等特性而得到广泛应用。然而,当前大气等离子喷涂技术制备的陶瓷涂层孔隙率普遍偏高,这直接影响了涂层的致密度、力学性能和使用寿命。特别是在极端环境下,如高速飞行器的热防护系统、汽车发动机的耐磨损部件以及电子设备的封装层等,对涂层的孔隙率有极为严格的要求。因此,为了解决现有技术中粉末粒径偏大、涂层孔隙率高的问题,亟需开发一种能够使用亚微米粉末进行大气等离子喷涂的新工艺,以降低涂层孔隙率,提升涂层性能,满足上述领域对高性能陶瓷涂层的迫切需求。
目前现有的大气等离子喷涂设备和粉末喷涂的陶瓷涂层孔隙率偏高,需要对设备升级,粉末粒径调控。众所周知,普通等离子喷涂设备功率低,使用的粉末粒径偏大,涂层孔隙率收到限制。开发高功率等离子设备,并且能够对亚微米粉末进行送粉喷涂,可用于制备具有低孔隙率的陶瓷涂层。该工艺应能够有效减少涂层中的孔隙数量,提高涂层的致密度和性能,以满足在航空、航天、汽车、电子等领域对高性能陶瓷涂层的需求。难点:①亚微米粉末有团聚效应,普通送粉器送粉困难;②既要保证粉末融化,同时避免粉末过烧涂层发生相变影响耐刻蚀性能。
