光刻胶专用颜料的研发

需求的背景和应用场景

在半导体制造行业，光刻胶作为光刻工艺中的关键材料，对芯片的性能与良率起着至关重要的作用。光刻胶不仅需要具备精确的图形转移能力，还需在特定波长下具有良好的透光性和光电导性能。酞菁蓝15:6，作为酞菁蓝颜料中最稳定的一种，因其对热和有机溶剂的良好稳定性以及鲜艳的红光蓝色，被广泛应用于高端涂料、油墨及光电材料领域。特别是在光刻胶中，酞菁蓝15:6可以作为颜料添加剂，提升光刻胶的色彩饱和度和光电导性能，从而满足高精度光刻工艺的要求。然而，当前市场上高性能的酞菁蓝15:6光刻胶颜料主要依赖进口，成本高昂且供应链不稳定，严重制约了国内半导体产业的发展。因此，研发具有自主知识产权、产品质量稳定、颜色鲜艳、应用性能优异的光刻胶用酞菁蓝15:6，对于打破国际技术壁垒，提升我国半导体产业的核心竞争力具有重要意义。

要解决的关键技术问题

本次技术需求的核心在于研发一种高效、稳定的酞菁蓝15:6制备工艺，使其特别适用于光刻胶的应用。具体需解决的关键技术问题包括：

1. 预活化处理技术：研究铜酞菁和晶种在卧式球磨机中的干磨预活化条件，优化磨球比、转速、时间等参数，确保预活化效果，为后续溶剂处理奠定良好基础。
2. 溶剂处理工艺：探索合适的溶剂体系及溶剂处理条件，如溶剂种类、浓度、温度等，以实现铜酞菁的有效分散和改性，赋予其良好的流动性和光电导功能性。
3. 产品质量控制：建立严格的质量控制体系，确保制备的酞菁蓝15:6颜料颜色鲜艳、粒径分布均匀、稳定性高，且各项性能指标达到或超越德国巴斯夫颜料公司的同类产品。
4. 应用性能优化：针对光刻胶的特定应用需求，对酞菁蓝15:6颜料进行表面改性或添加特定助剂，以提升其在光刻胶中的分散性、相容性和光电导性能。

效果要求

本次技术需求旨在通过研发光刻胶用酞菁蓝15:6，实现以下效果：

• 产品质量：制备的酞菁蓝15:6颜料颜色鲜艳、稳定性高，各项性能指标达到或超越国际先进水平。
• 应用性能：在光刻胶中具有良好的分散性、相容性和光电导性能，满足高精度光刻工艺的要求。
• 成本控制：通过自主研发，降低生产成本，提高市场竞争力。
• 创新性：形成具有自主知识产权的酞菁蓝15:6制备技术，打破国际技术壁垒，推动我国半导体产业的技术进步和产业升级。
• 竞争优势：与现有市场上的同类产品相比，具有更高的性价比和更稳定的供应链，为国内外半导体企业提供更优质的光刻胶颜料解决方案。