高纯电子级试剂的开发

需求的背景和应用场景

在电子行业，特别是集成电路（IC）制造领域，对金属痕量的检测要求极为严格，因为这直接关系到电子产品的性能、可靠性和成品率。金属离子杂质的存在，即使是在极低的浓度下（如ppb级别），也可能对电子器件造成不良影响。目前，市场上对于无机高纯试剂的需求日益增长，这类试剂的金属离子杂质背景含量需达到ppb级别，以满足痕量金属离子的电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）和电感耦合等离子体（ICP）检测需求。然而，国内能够提供此类高品质试剂的厂家稀缺，多数依赖进口，这不仅导致了高昂的采购成本，还因供货周期长而影响了生产效率。在2021年全球“缺芯”的大背景下，国产替代成为迫切需求，国内半导体企业正处于快速发展阶段，对湿电子化学品——这一电子工业的关键支撑材料——的需求激增。湿电子化学品的质量直接关乎电子产品的质量和先进制造技术的产业化进程，因此，开发具有自主知识产权的高纯电子级试剂，对于提升国内电子产业的竞争力具有重要意义。

要解决的关键技术问题

本技术需求旨在解决高纯电子级试剂的开发问题，关键在于降低试剂中金属离子杂质的背景含量至ppb级别，同时保持主体成分的高纯度（>99.99%）。这要求从原料选择、预处理、过滤到提纯等各个环节进行严格控制和技术创新。具体技术点包括：

• 原料筛选与预处理：选用高品质的硫酸、盐酸、氢氟酸、氨水等作为原料，并通过有效的预处理手段去除原料中的杂质。
• 高效提纯技术：开发高效的提纯工艺，如多级蒸馏、离子交换、膜分离等，以进一步降低金属离子杂质的含量。
• 严格的质量控制：建立严格的质量控制体系，确保产品符合G5要求，即金属杂质背景值达到ppb级别。
• 稳定化技术：研究试剂的稳定化技术，确保在储存和使用过程中金属离子杂质含量不上升。

效果要求

该技术需求的成功实施，将带来以下效果：

• 打破国外垄断：实现高纯电子级试剂的国产化，减少对进口产品的依赖，降低采购成本。
• 缩短供货周期：国内生产可大幅缩短供货周期，提高电子企业的生产效率。
• 提升产品质量：金属杂质背景值达到ppb级别，满足高端电子产品的制造需求，提升电子产品的性能和可靠性。
• 增强竞争力：推动国内半导体产业的自主可控发展，增强国际竞争力，助力国产替代进程。
• 创新价值：通过技术创新，开发出具有自主知识产权的高纯电子级试剂，为电子行业的发展提供新的动力。