高折射率光学树脂材料技术开发

20221021

科学研究和技术服务业

与拟合作方形成互信、互利的产学研联合体，促进我校科研成果转化，为甲方提供技术储备和技术支撑。为加速我校技术成果的转化，甲方作为我校新产品、新工艺的中试和产业化基地，承担可以做到的中试任务。关于中试场地，如若我校有成熟设备，可自行开展，提交技术交底书，如若我校无相关设备，或不适用于甲方技术目标，甲方应尽可能提供必要的中试场地及设备，以便顺利完成中试，开展产业化生产。且甲方有明确对接人，实时沟通技术开发内容及进展。根据转让模式、技术指标的难易程度，转让范围，排他条款等具体情况等，另行约定技术合同及其合同金额。甲乙双方参与项目的组成人员应对以下内容保密：技术开发试验方案与产品、服务内容相关标准操作规程、分析报告等资料或物品。保密期限：长期。未经披露方事先书面同意，接收方不得以任何形式向任何第三方披露。接收方应采取必要河里的措施保护披露方的保密信息。 为保证项目顺利实施，甲方还需提供如下条件或资料： 1）甲方人员研发环境，以及乙方人员到甲方现场沟通交流、测试环境； 2）项目研发所需要的基础树脂及相关的技术资料； 3）根据交付的材料进行工艺验证并输出验证结果。 其他需求根据具体情况，另行协商确定。

可国（境）内外转让

北京市科技成果转化平台建设（高校院所技术转移能力建设）

北京市科学技术委员会;中关村科技园区管理委员会

基于我校无机纳米粒子及光学树脂配方设计、生产、检测等技术，与合作单位共同开发适用于NIL及R2R工艺的高折射率光学树脂材料。NIL（纳米压印光刻）技术是在一个特殊的“印章”上，先刻上纳米电路图案，然后再将电路图案“压印”在晶圆上，就像盖章一样。目前，NIL被当作一种刻画32nm以下工艺芯片电路的替代方法。由于NIL没有镜头，相比EUV要更加经济。由于NIL采用的是机械复制，可以排除光学衍射的影响，理论上可以实现比光刻更高的分辨率，而且它的成本比EUV要低很多。随着日企在该项技术的发展，我国许多半导体科研机构均加入了NIL设备的研发当中，这对于全球半导体产业的发展，确实起到了至关重要的作用。该技术将微电子加工工艺融合于印刷技术中，解决了光学曝光技术中光衍射现象造成的分辨率极限问题，因此理论上具备比光刻更高的分辨率，可生产出电路线宽更窄的器件。除此之外，高效率、低成本、适合工业化生产等优势，也使得纳米压印技术一直受到业界的重视，被称为是微纳加工领域中第三代最有前景的光刻技术之一。 本项目基于合作单位提供的基础树脂材料，开发纳米填料及树脂配方设计、制备、测试表征、初步的工艺可行性验证和树脂材料储存稳定性研究，并开展量产可行性技术评估。